L’atelier a permis de rassembler à Montréal du 22 au 25 octobre 2000 une soixantaine de personnes, dont vingt-neuf Français, dix-neuf Américains et huit canadiens. Le but général était d’identifier des architectures nanométriques particulièrement intéressantes, susceptibles de conduire à de nouvelles applications ou d’améliorer celles qui existent déjà, et de déterminer les voies technologiques à suivre pour parvenir à créer ces architectures.
Les organisateurs ont réussi la performance d’attirer à ce colloque plus d’une quinzaine d’industriels, dix français (Saint-Gobain, GIAT, DLD International, Elf-Atochem, CEA, Cime Bocuse, Dassault Aviation, L’Oreal, Alsthom Power Hydro, Michelin), deux américains (Kodak, Nanophase) et quatre canadiens (CANMET, Integran Technologies, Hydro-Québec, Perpetual Technologies), soit presque le tiers de la représentation. Les chercheurs français étaient à majorité CNRS (dix) ; mais quatre Grandes Ecoles étaient aussi présentes (Polytechnique, Mines de Nancy, Mines de Paris, ENS de Cachan, deux des laboratoires représentant ces écoles étant des unités mixtes CNRS), ainsi que deux universités. Cette organisation a été particulièrement efficace pour insuffler au colloque une dynamique d’échanges entre les participants dont les attentes étaient pourtant diverses.
Au sommaire de ce document :
1. Contexte général de l’atelier sur les Nanomatériaux
1.1. Les Nanomatériaux, la Nanotechnologie
1.2. Les outils de la Nanotechnologie
1.3. Le contexte de l’atelier de Montréal
2. L’atelier
2.1. Géométrie de l’atelier
2.2. Le contenu de l’atelier
3. Conclusion
Auteurs : THOREL Alain
Publié le 30/11/2000 – 14 pages – pdf 108 Ko
